雖然沒(méi)有EUV技術(shù)，但ASML的沉浸式DUV光刻機(jī)依然可以制造28nm到7nm之間的各種芯片，中芯國(guó)際此前也表態(tài)下兩代工藝N+1、N+2（相當(dāng)于7nm LPE低功耗、7nm LPP高性能）也不會(huì)上EUV光刻機(jī)。

與EUV光刻機(jī)動(dòng)輒1億美元以上的售價(jià)相比，DUV光刻機(jī)要便宜很多，但也要3000-5000萬(wàn)美元，還要有數(shù)目不菲的安裝服務(wù)費(fèi)用，足以讓很多小公司望而卻步。

中芯國(guó)際沒(méi)有公布擴(kuò)產(chǎn)的工藝具體是什么，但99%可能是14nm工藝，這是2020年中芯國(guó)際重點(diǎn)中的重點(diǎn)，去年底產(chǎn)能不過(guò)1000片/月，今年3月將達(dá)到4K，7月達(dá)到9K，12月達(dá)到15K。

根據(jù)中芯國(guó)際聯(lián)席CEO梁孟松的說(shuō)法，1000片/月的產(chǎn)能就差不多要1億美元的投入，15K晶圓/月的產(chǎn)能意味著15億美元的投資。

放在以前，這樣的投資是不劃算的，不過(guò)現(xiàn)在這兩年情況不同了，中芯國(guó)際的14nm及未來(lái)的7nm工藝無(wú)論如何都是要上的。

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