投資數十億美元，英特爾要用EUV造7nm芯片
英特爾正準備在D1X 工廠加大對7nm EUV光刻工藝的研發(fā)，這座工廠位于美國俄勒岡州，晶圓廠擴建通常需要數十億美元，而EUV光刻的大規(guī)模采用預計會增加額外成本。 英特爾目前正在努力完善一種稱為極紫外光刻（EUV）的新制造工藝，這將使微芯片...
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標簽：光刻
張 妮娜業(yè)界動態(tài) 英特爾正準備在D1X 工廠加大對7nm EUV光刻工藝的研發(fā)，這座工廠位于美國俄勒岡州，晶圓廠擴建通常需要數十億美元，而EUV光刻的大規(guī)模采用預計會增加額外成本。 英特爾目前正在努力完善一種稱為極紫外光刻（EUV）的新制造工藝，這將使微芯片...
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