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隨著驅(qū)動器越來越小組件的發(fā)展趨勢使滑塊也變得越來越小。典型的小型溫徹斯滑塊設(shè)計大小約為4毫米× 3.2毫米× 0.86毫米。大多數(shù)磁頭制造商已經(jīng)轉(zhuǎn)移到更小的微米、納米、Pico或Femto滑塊?，F(xiàn)在使用的Femto滑塊非常小，大約是圓珠筆鼻尖的大小。 Pico和Femto滑塊是使用FIC和COC技術(shù)組裝的，這兩項技術(shù)使整個過程可以完全自動化進行。

下圖展示的是磁盤驅(qū)動器使用的不同滑塊類型的特點：

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較小的滑塊能夠減小磁頭傳動臂末端的摩擦，提供更高的加速和減速，從而帶來更快的尋道時間。較小的滑塊還需要更少的表面趨于，可以讓磁頭更接近外部 和內(nèi)部直徑，從而增加了磁盤的可用面積。此外，較小的滑塊接觸面積降低了在正常啟動和驅(qū)動器盤片轉(zhuǎn)速減速過程中出現(xiàn)的輕微磨損。下圖展示了一個安裝在磁頭 的 Femto滑塊的放大照片。

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較新的滑塊設(shè)計還有專門改裝的表面樣式，能夠維持磁盤表面上的相同浮動高度，不管滑塊是位于內(nèi)部還是外部磁柱。傳統(tǒng)滑塊會根據(jù)磁盤表面的運轉(zhuǎn)速度來增加或減少他們的浮動高度。在外部磁柱上，速度和浮動高度會更高。這樣的安排對于使用ZBR 區(qū)位記錄的驅(qū)動器并不可取，對于ZBR 區(qū)位記錄驅(qū)動器，所有磁柱的區(qū)位密度都是相同的。當(dāng)區(qū)位密度不統(tǒng)一時，磁頭浮動高度應(yīng)該是相對恒定以提供最高性能。特殊表面圖案和制造技術(shù)使滑塊能夠在更加一致的高度浮動，更加適合于ZBR 區(qū)位記錄的驅(qū)動器。

下圖展示的是典型的Femto空氣軸承滑塊表面設(shè)計。

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Femto滑塊有三個不同的具有復(fù)雜形狀的區(qū)域，旨在實現(xiàn)磁頭到磁盤一致的浮動高度以及在高海拔(低氣壓)情況下的最小高度損失。淺蝕刻區(qū)域創(chuàng)建了 一個階梯式進氣口，讓空氣流動，以在空氣軸承(將滑塊提起離開磁盤)表面形成正壓力。深蝕刻區(qū)域則形成了負壓袋，同時將滑塊拉到磁盤表面。正壓力和負壓力 的結(jié)合能夠平衡推動滑塊的懸掛臂，同時讓滑塊保持在所需的浮動高度。正負壓力的平衡減少了較舊滑塊設(shè)計中發(fā)現(xiàn)的浮動高度變化問題。使用Femto滑塊設(shè)計 的第一個驅(qū)動器是2003年5月推出的日歷7K602 1/2英寸驅(qū)動器。大多數(shù)高容量驅(qū)動器都是使用這種設(shè)計。

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